3月18日，深圳清溢光電股份有限公司平板顯示及半導(dǎo)體用掩膜版生產(chǎn)基地項(xiàng)目開工儀式在佛山南海舉行。該項(xiàng)目總體投資約35億元，將建設(shè)平板顯示配套掩膜版生產(chǎn)線和半導(dǎo)體IC配套掩膜版生產(chǎn)線，實(shí)現(xiàn)250-28nm光掩膜版量產(chǎn)，滿足8寸和12寸晶圓廠掩膜版需求。

掩膜版是平板顯示、半導(dǎo)體等行業(yè)生產(chǎn)制造過程中重要的關(guān)鍵材料，清溢光電則是國內(nèi)成立最早、規(guī)模最大的掩膜版生產(chǎn)企業(yè)之一。本次在佛山南海開工的項(xiàng)目，包括高精度掩膜版生產(chǎn)基地建設(shè)項(xiàng)目、高端半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)基地建設(shè)項(xiàng)目。

在平板顯示掩膜版方面，清溢光電目前已實(shí)現(xiàn)8.6代高精度掩膜版及6代中高精度AMOLED/LTPS掩膜版的量產(chǎn)。“該項(xiàng)目一期主要生產(chǎn)8.6代及以下高精度掩膜版，應(yīng)用于a-Si、LTPS、AMOLED、LTPO、MicroLED等平板顯示掩膜版產(chǎn)品?！鼻逡绻怆姸?、總經(jīng)理吳克強(qiáng)介紹說，接下來還將在佛山建設(shè)側(cè)重于高精度平板顯示掩膜版的研發(fā)與生產(chǎn)，“直面全球顯示技術(shù)變革?！?/span>

在半導(dǎo)體芯片掩膜版方面，清溢光電的產(chǎn)品已實(shí)現(xiàn)150nm工藝節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品客戶測(cè)試認(rèn)證，正在推進(jìn)130nm-65nm的PSM和OPC工藝的掩膜版開發(fā)，以及28nm半導(dǎo)體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃。在佛山建設(shè)的“高端半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)基地建設(shè)項(xiàng)目”將著眼于半導(dǎo)體掩膜版的生產(chǎn)，該項(xiàng)目一期實(shí)現(xiàn)并覆蓋250nm-65nm制程的高端半導(dǎo)體掩膜版。